اختراع حاضر با عنوان "پوشش دهي الكتروشيميايي نقره-ژرمانيوم" با بهينه كردن درصد ژرمانيوم در پوشش، بررسي دانسيته جريان، pH و افزودني ها، حصول شرايط ايده¬آل براي رسوب¬نشاني هم¬زمان نقره-ژرمانيوم به دست آمده است. جهت بررسي وجود و درصد ژرمانيوم و نقره در پوشش از آزمون¬ طيف¬سنجي پلاسماي جفت¬¬شدۀ القايي (ICP)، براي آناليز عنصري از ميكروسكوپ الكتروني مجهز به سيستم طيف¬سنجي پراكندگي انرژي پرتوايكس (EDS)، بررسي ريزساختار نمونه¬ها از تصويربرداري ميكروسكوپ الكتروني روبشي(SEM)، و براي شناسايي فازهاي تشكيل شده از الگوي پراش پرتو ايكس(XRD) استفاده شد. براي بررسي رفتار پلاريزاسيون از آزمون خوردگي در محيط حاوي گوگرد بهره گرفته شد. در اين شرايط و در دماي محيط، محصول خوردگي ناشي از واكنش مس زيرلايه با اكسيژن و گوگرد محيط و همچنين واكنش نقره با گوگرد سطح قطعات را پوشانده و موجب مي شود كه سطح قطعه كدر شود. افزايش ژرمانيوم در پوشش تا 6 درصد انجام گرفت اما با توجه به كيفيت پوشش و نتايج آزمون كدرشوندگي، نمونه 6/1 درصد ژرمانيوم به عنوان نمونه بهينه انتخاب گرديد. پوشش نقره-6/1درصد ژرمانيوم موجب بهبود مقاومت به كدرشدگي و كاهش جريان خوردگي تا ده برابر نسبت به نقره خالص مي¬شود. تشكيل لايه محافظ اكسيد ژرمانيوم موجب جلوگيري از كدرشدگي پوشش و زيرلايه مي شود.